Bei Aluminiummaterialien ist die natürliche Oxidschicht hygroskopisch und die Dicke nimmt mit der Zeit zu. Daher kann das Entfernen dieser rauen, kontaminierten Oxidschicht zum Freilegen des darunter liegenden Aluminiums ausreichend sein, um einen ausreichenden Kontrast zu erzeugen. Ein weiterer komplizierterer Faktor ist, dass der Schmelz- oder Abtragungsgrad des darunter liegenden Aluminiummaterials das Erscheinungsbild der Markierung erheblich beeinflussen kann.
Durch sorgfältige Einstellung der Parameter des Lasers wird eine hellere Oberfläche erzeugt, die einen höheren Kontrastschmelzeffekt zeigt. Durch Verwendung einer Impulsenergie von ~ 1 mJ kann eine tiefere, stärker oxidierte Oberfläche auf dem Aluminiummaterial gebildet werden. Wenn jedoch ein niedriger L * -Wert gewünscht wird, kann eine starke, nicht zerbrechliche Oberfläche erhalten werden ändert sich nicht, wenn sich der Betrachtungswinkel ändert, was eine sorgfältige Kontrolle des Prozesses erfordert. Wenn der Ablationsgrad erhöht wird, um eine leicht raue Oberfläche zu bilden, führt dies auch zu einer Oberfläche, die dunkler ist, eine höhere Absorptionsfähigkeit aufweist und einen höheren L * -Wert aufweist (1). Die gezeigten Oberflächenabmessungen waren alle <10 &="" mgr;="" m="" und="" die="" oberflächenrauheit="" (ra)="" war="" viel="" niedriger="" als=""><5 &="" mgr;="">
Abbildung 1: Dunkelgraue Aluminiumoberfläche, behandelt mit einem 5ns / 75μJ-Laser, Vergrößerung: 200-fach
Das Entfernen von eloxierten Beschichtungen von Aluminiumoberflächen ist eine weit verbreitete Technik, und für das Auftragen von Lasern auf Substraten gelten dieselben Regeln. Starke Schmelzbarkeit bedeutet eine stärker reflektierende Oberfläche. Unabhängig davon, ob es sich um blankes Aluminium oder eloxiertes Aluminium handelt, ist die Markierungsgeschwindigkeit mit 1-2 m / s hoch. In letzter Zeit wurden Lasermarkierungstechniken für spezifische anodisierte Beschichtungen entwickelt, wobei ein Faserlaser mit einem Abstand von weniger als einer Nanosekunde verwendet wurde, um einen L * -Wert von <30 zu="" erreichen,="" obwohl="" die="" markierungsgeschwindigkeit="" viel="" niedriger="" als="" auf="" die="" obige="" weise="">
Abbildung 2: Oberflächeneffekt von 0,8 mm dickem Kupfermaterial, das mit 0,15 Nanosekunden und einem Nanosekundenpuls behandelt wurde
